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依托高離化率多弧離子鍍技術(shù)，金屬離化率高、沉積速度快，膜層附著力極強(qiáng)，通用性強(qiáng)，適配各類(lèi)裝飾與功能鍍膜

融合磁過(guò)濾多弧離子與非平衡磁控濺射技術(shù)，專(zhuān)為切削刀具、精密模具制備超硬耐磨、耐高溫、耐腐蝕涂層，延長(zhǎng)工件使用壽命

全自動(dòng) UV 噴涂與紫外光固化一體化生產(chǎn)線(xiàn)，集成上料、除塵、噴涂、流平、固化、下料全流程，可對(duì)接 PVD 鍍膜線(xiàn)，完成產(chǎn)品表面防護(hù)、增亮、多色處理

采用平面 / 旋轉(zhuǎn)磁控濺射技術(shù)，可鍍制致密均勻的金屬與化合物膜層，適配多基材、多場(chǎng)景鍍膜需求

立式雙門(mén)交替作業(yè)結(jié)構(gòu)，裝卸料與鍍膜同步進(jìn)行，兼容磁控濺射、電阻蒸發(fā)、保護(hù)膜鍍膜，一機(jī)多用

采用電子束蒸發(fā) / 磁控濺射復(fù)合技術(shù)，搭配離子源輔助沉積，專(zhuān)為多層精密光學(xué)膜系設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)高均勻度、高純度、高精度的光學(xué)膜層沉積

基于普通蒸發(fā)鍍膜機(jī)升級(jí)開(kāi)發(fā)，集成真空蒸發(fā)鍍膜與 HMDSO 等離子體聚合沉積技術(shù)，一次性完成車(chē)燈反光碗金屬反光層與硅油保護(hù)膜的重合鍍膜，替代傳統(tǒng)噴涂工藝

采用非平衡閉合磁控濺射 / FCVA 過(guò)濾陰極電弧技術(shù)，低溫沉積含氫 / 無(wú)氫 DLC 涂層，具備低摩擦、高耐磨、自潤(rùn)滑特性

大容量鍍膜腔體設(shè)計(jì)，多弧離子 + 磁控濺射復(fù)合工藝，可鍍制均勻亮麗、耐候性強(qiáng)的彩色裝飾膜，替代傳統(tǒng)水電鍍